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Nonsequitur 大束流離子源離子槍
Model 1404設計特點：
高亮度電子沖擊離子源
連續可變光束能量，最多3kV
束流0-10uA
支持所有惰性氣體外加氮氣，可選氧氣功能，帶Thoria涂層燈絲
所有材料采用超高真空和耐腐蝕材料
配備可用于可變蝕刻區域和光束準直的冷凝器透鏡
配備用于計算機控制的USB接口和圖形用戶界面
Nonsequitur 大束流離子源離子槍
Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學實驗，例如使用Auger 和ESCA進行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。
在工作距離為25mm，束流大小為20µA時，光斑為直徑0.4mm。相比較于其他的離子槍而言，離子槍Model 1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當束流為1µA時，光斑最小可以選擇到50µm. 電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇，并同時保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調節，并不受電子束能量的影響，無需外部設備，可以直接從前面板進行調節。
通過電子沖擊來生成離子，雙燈絲設計可以延長使用壽命，而無需中斷設備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態，以防止燈絲材料沉積到樣品上。
Nonsequitur 銫離子槍 堿性離子槍設計特點
用戶可更換Frit離子源以產生各種離子
光斑可調 75um to >1mm for spatially defined sputtering
連續可變束流能量，最高 5keV
使用光束彎曲光學元件進行中性種抑制
BTOF SIMS的光束消隱能力
集成束流監控能力
可選光束束電極
采用適合超高真空和耐蝕刻的材料
用于減小光斑尺寸的透鏡偏轉
差速泵，以盡量減少主腔室氣體負載
Ion Guns Model 1407 設計特點
緊湊型離子源，雙等離子發射器
可調節的束斑， ≥ 15µm ，用于空間定義的濺射
可調節發射，提供穩定的束流，前面板可調動態范圍 x300
連續可變電子束能量，最高達 5keV
用于電子束掃描和校正的雙電極
用于減小束斑大小的預目標透鏡偏轉
集成束流大小監測
燈絲不直接到樣品，避免不必要的樣品污染
可更換電子束修剪孔徑板，典型使用壽命> 500 hours
提供雙燈絲備份
內部源壓力傳感器，允許監控離子源壓力
采用適合超高真空和耐蝕刻的材料
差速泵，以盡量減少主腔室氣體負載
在惰性氣體下運行
Nonequitur李子源Model 1450設計特點
可調節的光斑尺寸≥5um，用于空間定義的濺射或注入。發射調節轟擊提供穩定的離子電流。連續可變的束能5kV至50kV。雙八極用于束掃描和像散校正。預物鏡掃描可減小光斑尺寸。沒有直接的燈絲到樣品視線，以避免樣品污染。客戶可更換的燈絲和束修整孔。雙燈絲在燈絲壽命結束時提供操作備份。制造中使用的所有UHV兼容和耐蝕刻材料。差分泵送可最大限度地減少主室氣體負載。在惰性氣體和氮氣范圍內工作
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